東陽華芯：開啟新徵程去年，華懋科技、徐州博康在浙江省東陽市聯合設立合資企業——東陽華芯電子材料有限公司，著力於實現我國高階乾溼法ArF和KrF光刻膠產品及相關光刻材料工藝與效能的全面提升...

三星今日起量產3nm晶片01MaxLinear收購慧榮案再進一步，還待中國批准慧榮科技與美企MaxLinear同步宣佈，根據1976年的Hart-Scott-Rodino反托拉斯改進法案（HSR法案，反壟斷相關），雙方此前宣佈的MaxLin...

張忠謀反對國產晶片自給自足但沒想到的是，臺積電創始人張忠謀居然公開反對我們走晶片自給自足的發展路線，張忠謀表示：全球沒有任何單一的地區或者國家能夠建立完善的產業鏈，且還能在市場中保持競爭力，大陸應該專注晶片設計，盲目追尋給自給足不僅會拖慢技...

ASML表示侵犯他們智慧財產權的這家公司名為XTAL，而他們認為與XTAL相關的中國公司——東方晶源可能在中國銷售相關侵權產品...

光刻機作為晶片製造產線上最重要核心裝置之一，被譽為是工業皇冠上的明珠，不僅是因為該裝置昂貴、精密，更是由於它的特殊性：全球能生產中高階光刻裝置的只有荷蘭ASML，但其產線上卻糅合了美國光源、德國光學鏡頭、瑞士數控機床等數十個國家的尖端技術，...

在此，研究者提出了一種新的立體光刻列印系統，該系統使用平面微光學器件形成整體影象，提供了一種無需序列掃描的可擴充套件的增材製造方法...

在美國針對華為、中興等國產頭部科技企業而修改晶片規則之後，全球僅荷蘭光刻巨頭ASML能夠生產的中高階光刻裝置，也被納入了出口清單之中...

NIL比拼EUV由於EUV裝置太過昂貴，且生產難度很高，近些年，業界一直在尋找其它辦法，不用EUV光刻機，能不能生產7nm及以下的晶片...

中國上海，2021 年 11 月 08 日 – 杜邦電子與工業事業部和北京科華微電子材料有限公司今日宣佈開展一項合作計劃，為中國積體電路晶片製造商提供高效能光刻材料...

圖1：半導體光刻機的核心是通快鐳射放大器提到極紫外光刻（EUV），人們傾向於把注意力集中在晶片工藝和光刻裝置，但是他們往往會忽略另一個重要的方面：光從哪兒來...

光刻機作為製造晶片的重要核心裝置，被稱為“工業皇冠上的明珠”...

據高偉民介紹，2003年左右，ASML等光刻機廠商還開發過157奈米波長的光源，但由於配套材料不過關，157奈米光源並未投入商用，這反而因禍得福，ASML在193奈米波長的光源上開發出浸潤式光刻技術，進一步擴大對日本廠商的領先優勢...

▍光刻機核心技術之一——光源在光刻機的數萬個零部件中，核心技術及零部件包括光源、雙工作臺、浸沒式系統、EUV技術的研發迭代是光刻機產業不斷前進的關鍵，其中光源作為核心之一，也是此次華為投資的科益虹源所生產的主要產品...