如果沒有EUV光刻機的幫助，也就意味著，三星在3nm節點的產能將繼續落後臺積電，反超臺積電的希望也變得愈發渺茫...

老美雖然對ASML公司核心產品限制的厲害，但對其一代產品DUV光刻機的出口卻沒過多限制，因為這在西方國家看來已經過時的產品，能發揮多大價值...

筆者認為，ASML公司將大量的DUV光刻機賣給中企，雖然能夠在短時間內提升國產晶片的產能，但對國產晶片的發展來說，絕不是一件好事，將會嚴重影響某些中企決策人的決心，放緩國產光刻機的腳步...

進口晶片份額大幅度減少聯發科也藉助相關限制這個機會，成功進入到了中國市場，在中低端晶片市場已經沒有任何對手了，同時在高階市場也開始蠶食高通的份額，而小米、OV等等廠商，也開啟了晶片的自研步伐...

ASML做出一項重要決定值得注意的是，ASML近期就中國市場還宣佈了一項重要決定，表示將在大陸招聘200多名，從而跟上中國快速增長的步伐，投入中美長期科技競爭中，並且還會加大對我國非EUV光刻機的出貨...

圖自：華為官網儘管HBM的出現開啟了DRAM 3D化發展道路，無電容IGZO-DRAM 也成為了實現高密度 3D DRAM 的合適候選者，三星、美光甚至應用材料這樣的半導體裝置廠商也參與其中...

新一代光刻機擁有：高產能和高數值孔徑 （High-NA） EUV 曝光系統1五家客戶訂購，晶片電路減少66%據報道，ASML 正製造新款極紫外光線（EUV，extreme ultraviolet）光刻機，預計每臺售價約 4 億美元，或將在...

ASML也闡明瞭這不是他們的選擇，但實際情況就擺在眼前，面對中國半導體裝置市場的發展增速，而國產廠商們的進展突破，如果ASML不積極開展布局，中企就要和ASML說再見了...

目前對於中國市場來說，最難實現的莫過於用於生產晶片的EUV光刻機，缺乏核心裝置的供應，也導致國內的晶片工藝卡在了14nm，根本無法再朝前邁進一步，國內目前也開始加大力度研發光刻機工藝，這一次中科院為實現國產化拼了...

不過從現在的情況來看，EUV光刻機似乎在被整個行業弱化，因為各大半導體行業巨頭都將目光投向了新的領域，光子晶片或許會成為未來的主攻方向...

不同部門內鬥頻傳 高層無能解決三星手機、LSI部門與晶圓代工部門形成推諉三角形，三星手機指責LSI給的方案不夠強，成本又高，LSI部門則是指責晶圓代工部門製程良率與規格造假，讓他們做不出好產品，業界表示，這三個部門明明同屬於一家公司，但彼此...

再加上這一次ASML直接把不能出貨的責任歸結到瓦森納協定成員國身上，由此可見ASML在不斷提升EUV光刻機產能的同時，有多麼希望可以在大陸做這筆生意...

然而，ASML最新款的EUV光刻機卻是英特爾買走，臺積電沒有任何態度...

ASML表示侵犯他們智慧財產權的這家公司名為XTAL，而他們認為與XTAL相關的中國公司——東方晶源可能在中國銷售相關侵權產品...

但你可能不知道，深處世界之巔的阿斯麥曾經只是一個小破廠，在破產邊緣瘋狂試探，36前阿斯麥在飛利浦的實驗室裡誕生了，擁有世界上最先進的“步進光刻機”技術，但飛利浦根本不知道該用光刻機做什麼，只想把這燒錢的玩意扔出去，這一扔讓原本就窮的阿斯麥雪...

國產光刻機：錯失了發展好時機我國的上海微電子目前只能生產90nm低端光刻機，荷蘭ASML能夠生產EUV高階光刻機和DUV中端光刻機，日本的尼康、佳能只能生產中低端光刻機...

拿不到許可，不能實現EUV光刻機自由出貨，將會影響ASML在大陸的佈局...

相比三星、英特爾等晶片製造企業而言，臺積電的資本開支可以說最高的，這也是臺積電晶片製造技術和晶片產能能夠全球領先的主要原因...

圖源：ETNews集微網訊息，韓國光刻膠供應商東進世美肯（Dongjin Semichem）表示，近日通過了三星電子的EUV光刻膠可靠性測試（合格）...

突破阿斯麥爾光刻機的專利壁壘，這樣的科研成就放眼全球可能都沒有幾個國家或者地區能夠做到...