IMEC:0.2nm,可以!
科技

IMEC:0.2nm,可以!

新一代光刻機擁有:高產能和高數值孔徑 (High-NA) EUV 曝光系統1五家客戶訂購,晶片電路減少66%據報道,ASML 正製造新款極紫外光線(EUV,extreme ultraviolet)光刻機,預計每臺售價約 4 億美元,或將在...

臺積電多項舉動異常,或許是在“暗度陳倉”,並沒有放棄幫助華為
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臺積電多項舉動異常,或許是在“暗度陳倉”,並沒有放棄幫助華為

美晶片行業近些年頹勢明顯,作為最先進的晶片製造廠商,英特爾至今未能實現對於7nm製程工藝的攻克,對於尖端晶片的生產製造高度依賴於臺積電,並且還制定了長期的合作計劃,大有放棄繼續研發的打算,為了重塑自身在晶片領域的地位,美想盡了各種辦法,為了...