注：本文轉載自網路，如有侵權，請聯絡我們進行刪除，謝謝！
在過去二十年時間裡，我國資訊產業一直處於“缺芯少魂”的局面，這裡指的是半導體晶片等硬體裝置以及軟體系統生態。
之所以出現這樣的情況，表面上看是由於我國起步晚，大可以透過高價進口來解決發展所需的問題，而主要原因則是海外市場的嚴密技術封鎖，給我們的發展製造了很大的障礙，逼著我們不得不依賴進口。
尤其是《瓦森納協定》，這是老美聯合其他41國簽署的協議，其主要內容就是禁止一切尖端技術裝置對華出口。在美國針對華為、中興等國產頭部科技企業而修改晶片規則之後，全球僅荷蘭光刻巨頭ASML能夠生產的中高階光刻裝置，也被納入了出口清單之中。
在系統方面，華為接連建立了鴻蒙、尤拉兩大基建系統，西方想要進一步封鎖已經不現實。然而，在晶片方面，光刻機卻成了老美遏制我國半導體產業自給自足的一把“利刃”。
雖然ASML能夠生產光刻裝置且傾向於對華出口，可其產線上卻糅合了大量的他國技術裝置，比如美國的光源技術產品，在技術佔比上超過了20%，這導致ASML不得不遵循所謂的“出口管制規則”而無法自由出貨。
鑑於這樣的情況，我們開始奮發圖強、自主研發國產光刻機，在中科院、清北高校等科研機構，以及上海微電子等光刻廠商的共同努力下，國內光刻市場在近兩年不斷傳出著破冰的好訊息，展現出了一片生機勃勃的景象。
然而，沒想到的是，這卻觸動了ASML的“敏感神經”，其執行長Peter多次，表示會加大在中國市場的投資，想辦法促進光刻裝置的出口。另外Peter還強調，截止目前，ASML方面對華出口的光刻裝置已累計達到了1000臺！
很顯然，ASML這是在傳達對中國市場的好感，是因為它擔心未來被排出在國內市場之外，或者是在我們的光刻裝置實現國產化之後，物美價廉的中國產品衝擊到它的市場地位。
果然，在近日的上海進博會上，ASML中國區總裁沈波就帶來了一項重磅訊息，ASML方面正式表態，除了EUV裝置之外，其他產品均可對華自由出貨。這其中包括了可用於14nm、乃至7nm晶片製造的DUV光刻機。
在國產代工企業大舉投建晶片廠之時，ASML可自由出貨DUV裝置固然是個好訊息，但倘若以為它單純是為了助力國產晶片產業的發展就太天真了。
要知道，上海微電子在今年不僅釋出了高精度封測光刻機，而且其自研的可用於晶片製造前道工序的浸沒式光刻裝置也已完成技術開發，該193nm波長浸沒式光刻裝置在效能對比上絲毫不弱於DUV裝置，透過多重曝光技術，能夠實現7nm及以上製程節點晶片的製造。
值得強調的是，為了研發該國產光刻裝置，上海微電子以及其他五家國產企業苦心鑽研了四年之久。這五家企業分別是北京科益虹源、北京國望光科、長春國科、浙江啟爾以及北京華卓精科。
這足以看出國內光刻市場現階段蘊藏的活力。根據此前傳出的訊息可知，該國產光刻裝置將在年底或者明年正式落地。
一旦國產光刻機實現了量產並形成了市場規模，那麼ASML或許就沒機會再賣給我們了，這或許就是它力爭DUV裝置自由對華出貨的主要原因。
對此，中國工程院士倪光南教授表示，對於海外態度的轉變，不得不防！核心技術是買不來、換不來、求不來的，在國內晶片市場加速形成良性內需迴圈的關鍵時刻，我們必須要放棄幻想，身體力行的完成國產化替代，從而徹底擺脫“卡脖子”。
事實也的確如此，DUV光刻裝置的自由出貨既是“蜜糖”也是“砒霜”，它或許可以促進國產晶片的發展，但也會在很大程度上遏制國產光刻企業的生產空間，甚至是打擊到國產自研的積極性。
因此，我們一定要酌量購買，必須給國產光刻裝置留有足夠的市場空間，同時也不能放緩研發的腳步，只有這樣，我們在光刻領域才能穩步前進。