光刻機作為晶片製造產線上最重要核心裝置之一，被譽為是工業皇冠上的明珠，不僅是因為該裝置昂貴、精密，更是由於它的特殊性：全球能生產中高階光刻裝置的只有荷蘭ASML，但其產線上卻糅合了美國光源、德國光學鏡頭、瑞士數控機床等數十個國家的尖端技術，最關鍵的一點是產能不高，市場供不應求。
再加上美出口管制規則的約束，國內市場很難從ASML手裡進口到高精尖光刻裝置，然而，晶片國產化替代又刻不容緩，因此，留給我們的選擇只剩一個，那就是自己動手，實現光刻國產化。
沒想到的是，ASML卻潑來冷水，表示即便是給中國圖紙，他們也造不出來。就連臺積電張忠謀也公開反對我們實現自給自足，認為憑我們一己之力很難打破裝置壟斷，更無法建立完善的半導體產業鏈。
但正如BYD創始人王傳福所說，再尖端的裝置也是人造的，而非神造的。中科院等科技機構以及上海微電子等科技企業絲毫沒有因為外界的不看好，而放緩對國產光刻機的研發腳步。
功夫不負有心，在這兩年時間裡，國內光刻市場不斷傳出著破冰的好訊息，比如中科院的首臺高能同步輻射光源，中科科美研發的直線式勞埃透鏡與奈米聚焦裝置等等，都預示著國產高精尖光刻裝置的落地已經不遠了。
果然，在10月24日，國內光刻市場再次傳來重磅訊息。
據媒體報道，上海微電子在新產品釋出會上，正式確認了推出的新一代視場高解析度先進封裝光刻機！
知情人士透露，上海微電子自研的該光刻裝置，技術專利方面完全自主可控，且已與國內多家客戶達成銷售協議，首臺將於年內交付。
該新一代高解析度光刻裝置主要應用於晶片下游產業鏈的封測領域，將在很大程度上提升國產封測水平並推動封測產業的發展。
或許很多人會覺得該裝置無法應用於晶片製造前道工序而略感失望，但是要知道，封測領域同樣十分重要，而且是我國晶片產業的一大短板，這足以看出上海微電子此次突破的重大意義。
而且，我們已經突破了高解析度封測光刻領域的壟斷，那麼用於晶片製造前道工序的光刻裝置的突破還會遠嗎？
國產高解析度封測光刻裝置的落地雖然暫時無法動搖ASML的市場地位，但卻足以讓其驚出一身“冷汗”。
我國是全球最大的半導體消費市場，ASML為了不被排除在我國市場之外，在近段時間多次表示將提高產能，預計在三年之內累計生產160臺EUV裝置，由於ASML新型光刻機已研發完成，隨著EUV的普及化，它或許可以在三五年後實現自由出貨。
然而，一旦我們在這個時間節點裡實現了光刻裝置的國產化，就意味著ASML現階段的佈局或許將失去意義。它顯然沒料到，國內市場在光刻研發上的進展會這麼快。
不過，倪光南院士早有忠告，核心技術是買不來、換不來、求不來的，不管ASML未來是否能實現EUV的自由出貨，我們都不能改變核心技術自研的發展方向，買來的東西用著不可能踏實，只有做到“手中有糧”，才能徹底擺脫卡脖子窘境。