ASML一直都希望在中國加快市場佈局，但是和ASML預想中的不一樣，因為無法做到EUV光刻機的自由出貨，所以在更大層面的高階晶片製造市場，ASML無法從大陸客戶手中獲得訂單。
相反，中企已經開始深入國產供應鏈合作了，與各大國產半導體裝置廠商加緊合作，國產半導體裝置供應鏈也在持續發力。具體都有哪些進展表現呢？ASML還有哪些機會？
國產半導體裝置供應鏈持續發力
中國不僅是全球最大的晶片消費市場，而且也是最大的半導體裝置消費國。據《全球半導體裝置市場統計報告》顯示，我國在2021年全球半導體制造裝置銷售市場中佔據第一，銷售額高達296 億美元，相當於2010億元人民幣，同比增長58%。
這樣的銷售額表現和增長效果，都突出了中國市場有巨大的半導體制造裝置消費需求。在整個的晶片製造行業中，有關的半導體裝置供應商都在迎來強勁的出貨表現。
結合國產半導體裝置供應商的技術突破，交付驗證進展等一系列的工作展開，在供應鏈當中取得了持續發力的效果，具體都有哪些進展表現呢？
需要清楚的是，半導體制造裝置有非常多的種類，每一個晶片製造步驟流程都會有一個或多個的裝置需求。
分別來看，至純科技可以提供清洗裝置，可用於28nm節點。預計在2022年期間14nm以及7nm工藝的裝置可以提供客戶進行驗證，而至純科技的客戶包括中芯國際，長鑫儲存等巨頭。
另外在離子注入機方面凱世通也傳出好訊息。據悉，
萬業企業旗下的凱世通研發的高能離子注入機已經透過客戶驗證，驗收，實現國內首臺高能離子注入機進行晶圓廠驗證。
不僅如此，中國電科旗下的裝備子集團也實現28nm全譜系的離子注入機突破，覆蓋中束流，大束流及高能等等。
何止這些，中微半導體的刻蝕機成功進入臺積電5nm生產線，上海微電子實現國內首臺3D/2。5D封裝光刻機交付，盛美半導體實現18 腔 300mm Ultra C VI 單晶圓清洗裝置量產，對沉積前清洗，聚合物清除等關鍵清洗作業有出色的表現。
隨著這些國產半導體裝置供應商，企業的發展，在各式各樣的半導體制造裝置當中都取得了顯著的進展。有的已經交付實際產品，有的還在研製的路上。
就像國望光學已經開始為曝光系統生產專案公開招標了，一旦專案完成，那麼國產光刻機裝置將再添助力。
ASML還有哪些機會？
面對國內龐大的半導體裝置銷售市場，不難看見有許多國產廠商的身影。同時國外的半導體裝置廠商ASML也在積極佈局中國市場，表示會加快佈局，保持和中國市場的開放合作。
但ASML有怎樣的出貨狀態大家都知道，大部分的裝置都能出貨，唯獨最高階的EUV光刻機不能向大陸客戶提供。
ASML也闡明瞭這不是他們的選擇，但實際情況就擺在眼前，面對中國半導體裝置市場的發展增速，而國產廠商們的進展突破，如果ASML不積極開展布局，中企就要和ASML說再見了。
一旦大陸客戶與大陸廠商強強聯手，建立訂單協議，採購包括光刻機在內的國產裝置，ASML還有哪些機會呢？提供給ASML的機會選擇並不是沒有，大致來看主要包括兩個。
第一個：加速新一代NA EUV光刻機的落地。
ASML已經打算採用高數值孔徑系統用於下一代NA EUV光刻機，這是比普通EUV光刻機還要昂貴，先進及複雜的光刻機，預計價格將達到20億元人民幣。
但如此先進的裝置，研製成功並量產都是不容易的。可要是ASML真的掌握NA EUV光刻機的量產，其在全球半導體裝置行業的影響力會更加深厚。當然，前提是加速新一代NA EUV光刻機的落地。
第二個：維持現有中低端光刻機的合作。
ASML知道自己可自由出貨的裝置包括哪些，除了EUV光刻機裝置之外，其餘的裝置都能自由供貨。
比如DUV、ArF、KrF型號的光刻機，靠這些裝置可以給ASML提供出貨保障，用維持現有中低端光刻機的合作方式彌補無法自由出貨EUV光刻機的問題。
不過中低端光刻機的需求量總會達到飽和，而且在技術難度方面，國產並非沒有希望破冰，到時候ASML的中低端光刻機能否像往常一樣迎來海量訂單，就不得而知了。
寫在最後
中企在國產半導體裝置產業鏈持續發力，國產廠商的裝置也在提供給中企客戶，包括光刻機同樣迎來自主化發展需求。按照這種趨勢發展下去，估計要說“再見了，ASML。”
至於ASML能否透過眼前的兩個機會抓住市場契機，只能靜觀其變了。
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