當下，全球正面臨著十分嚴峻的晶片短缺。在這樣的國際形勢下，最重要的無疑就是光刻機，特別是EUV高階光刻機。但是，目前全球的光刻機貿易基本上都被阿斯麥爾壟斷。當然，這也是沒辦法的事情，畢竟阿斯麥爾有著核心的組裝技術和佈滿全球的產業鏈。
但是，近年來，由於我國在光刻機方面取得的突破，使阿斯麥爾頻頻對我國示好，用盡一切辦法儘可能加大對我國的佈局。但是，我國為了更好地實現獨立自主，最近攻破了EUV光刻機的專利壁壘。那麼，我國攻破這個專利壁壘，對於我國而言，會產生怎樣的影響呢？
阿斯麥爾的佈局
眾所周知，近年來，阿斯麥爾對於我國的態度可以說是發生了翻天覆地的變化。之前，阿斯麥爾的光刻機總是千金難求，如今，除了EUV光刻機之外，其他型別的光刻機不僅可以向我國進口，甚至還承諾會盡量滿足我國的需求。更重要的是，在價錢上，阿斯麥爾還特別降價。
其實，阿斯麥爾的頻頻示好，可能想要趁著我國國產光刻機還沒有落地，抓緊佈局我國市場，避免日後被排擠出去。但是，阿斯麥爾這次的佈局恐怕要面臨泡湯了，因為我國在最近打破了EUV光刻機的專利壁壘。
我國打破光刻機專利壁壘
眾所周知，阿斯麥爾在我國，最近兩年裡申請了三千多項光刻機技術專利。換言之，就是說如果在生產光刻機過程中，使用了阿斯麥爾光刻機的技術，就算造出來了，沒有阿斯麥爾的許可一樣沒用。美國其實就是用這樣的專利壁壘，才能涉足阿斯麥爾光刻機的出售。
但是，我國最近很多機構打破了光刻機的專利壁壘。首先就是我國的長春光機所，它突破的是雙波長鐳射共軸輸出系統和方法。主要就是透過CO2鐳射器，同時輸出雙波長鐳射。
接著就是中科院，2020年10月7日，中國科學院高能物理研究所成功研發出極紫外光源技術。這項技術主要就是解決目前極紫外光功率和波長無法調整的問題，畢竟如果極紫外光無法調整，那麼就會影響到光刻的解析度，進而影響到晶片的質量。
最後就是四川大學突破了光刻機的光源技術，這種光源可以運用在DUV、EUV等中高階光刻機身上，主要就是保證裝置能夠穩定高效地產生13。5奈米光源。
以上我國在光刻機領域取得的種種技術突破，其實阿斯麥爾都沒有完全掌握，因此，就這樣看來，也可以說我國突破了阿斯麥爾的光刻機專利壁壘。那麼，在我國打破光刻機專利壁壘的當下，對於我國而言，又會帶來哪些影響呢？
打破專利壁壘對我國有什麼影響？
首先，為光刻機國產化更進一步
眾所周知，光刻機要想實現國產化，那麼就必須要突破光刻機的核心技術。但是，僅僅突破還是不夠的，由於阿斯麥爾給自己生產的光刻機申請了一堆的專利，如果沒有突破阿斯麥爾沒有突破或者沒完全突破的技術，那麼技術突破就沒用了。
而我國突破的專利恰恰正是阿斯麥爾沒有完全掌握的技術。因為，隨著我國突破核心技術，將會使得我國在光刻機國產化的道路上，邁進一大步。
其次，滿足我國晶片需求
我國打破了阿斯麥爾的專利壁壘，使阿斯麥爾都主動要將除了EUV光刻機之外的產品降價出口到我國。在目前全球晶片荒的當下，藉著我國突破專利壁壘的福，至少能滿足我國的晶片需求。
可能有人會說，阿斯麥爾不是隻向我國出口中低端光刻機嗎？確實沒錯，但是，當下缺乏的不就是中低端光刻機生產出的中低端晶片嗎？
最後，提高我國國際地位。
突破阿斯麥爾光刻機的專利壁壘，這樣的科研成就放眼全球可能都沒有幾個國家或者地區能夠做到。但是我國偏偏就做到了。這在一定程度上可以向國際社會證明我國強勁的科研實力。在科技實力成為綜合國力重要考量因素的今天，對於提高我國的國際地位，還是很有幫助的。
我國突破阿斯麥爾高階光刻機的技術壁壘，可能很多人會好奇，我國是否有希望實現EUV光刻機國產化呢？
我國有希望實現國產EUV光刻機嗎？
首先，EUV光刻機供應鏈太廣太多
其實，我國要想實現EUV光刻機的國產化，至少就目前來看不太可能。眾所周知，光刻機雖然是由荷蘭阿斯麥爾公司生產的，但是，如果真要較真的話，阿斯麥爾其實也不過就是一個組裝廠而言。
其中，EUV光刻機的零件都是需要從全球各地進口的，換言之，阿斯麥爾就是因為有全球光刻機生產鏈，所以才能壟斷光刻機貿易市場。而這樣的生產鏈，我國目前可能還無法佈局。
其次，EUV光刻機組裝技術被壟斷
眾所周知，EUV光刻機是一個全球貨，身上的零件可能來自全球各地不同企業和工廠。在這種情況下，EUV光刻機的零件之間就會產生很大的公差。如果沒有專業的組裝技術，那麼在使用過程很有可能會出現各種各樣的故障和意外。
但是，專業的組裝圖紙目前在阿斯麥爾手中，因此我國就算成功拿到或者生產出阿斯麥爾光刻機身上的零件，也沒有辦法組裝起來。
總結
阿斯麥爾近年來在我國的佈局，其意圖無非是為了能儘可能保住我國市場，但是，就目前來看，阿斯麥爾的意圖因為我國突破EUV光刻機核心技術可能就要落空。未來，我們依舊希望我國相關企業或科研機構能夠再接再厲，儘早在高階光刻機領域，展現出耀眼的中國之光。