迎2021新一年,三星NAND、DRAM、晶圓代工方面有動作!

2020年儲存市場發生了很多大事,比如鎧俠延遲IPO上市;英特爾徹底與美光結束合作;SK海力士買下英特爾NAND業務;西部資料合併Flash和HDD業務;長江儲存釋出128層3D NAND;美光和SK海力士突破176層3D NAND技術等等。

無論對於NAND Flash還是DRAM市場而言,都具有重大意義。2020年原廠之間暗潮湧動,作為儲存晶片龍頭企業的三星,2021年的動向備受關注。

據市場訊息稱,

三星計劃2021年將大部分投資用於NAND Flash、晶圓代工等,DRAM則維持2020年的水平,較為保守投資。

記憶體市場熱度不減,三星為何保守投資DRAM?

從12月份開始,記憶體市場不僅備貨需求積極,而且市場DDR顆粒和記憶體條漲價明顯。據中國快閃記憶體市場ChinaFlashMarket報價顯示,一個多月以來,渠道記憶體條DDR4 UDIMM 16GB 2666累積漲幅已超過20%;行業記憶體條DDR4 SODIMM 16GB 2666累積漲幅也已達15。5%。

在全球DRAM市場上,主要是三星、SK海力士、美光主導,且三星市場佔有率一直超過40%,而且三星儲存器業務結構中,DRAM營收佔60%,而NAND Flash營收佔40%。就目前市場而言,記憶體條市場價格漲價明顯,且向上行情有望持續,三星DRAM保守投資,可維持穩健的市場供需關係,同時保持業務收益表現。

在DRAM技術方面,2020年三星率先在1Znm工藝節點匯入EUV裝置,量產16Gb LPDDR5。同時三星也規劃將在2021年大量生產基於第四代10nm級(1α)EUV工藝的16Gb DDR5/LPDDR5,相比美光和SK海力士,三星DRAM技術處於領先優勢。

在投資方面,三星2020年在平澤P2工廠已投產DRAM,2021年將根據市況靈活調整產能。同時,三星還計劃將華城DRAM生產線轉為CIS生產線,以期增加20%的CIS產能,滿足市場不斷增加的市場需求。綜合來看,三星在DRAM投資上將會趨於保守。

176層技術節點上被趕超,鎧俠加碼投資建廠,三星有“危機感”,會重點投資NAND

相較於DRAM,NAND Flash市場競爭更大,三星全球市場佔有率一直保持在30%以上,之前主要是三星、鎧俠、西部資料、SK海力士、美光、英特爾幾家原廠競爭。但是到2020年,長江儲存重磅釋出128層3D NAND技術,再加上SK海力士收購英特爾之後,市場競爭進一步加劇。

在NAND Flash技術上,三星一直處於領先地位,也是最早在2013年率先量產24層3D NAND。不過,在2020年底,美光、SK海力士公開宣佈在176層3D NAND上率先取得突破進展,雖然三星也聲稱將在2021年量產第七代V-NAND,但依然感受到了來自競爭對手的壓力。

在NAND Flash投資上,僅次於三星市場排名的鎧俠與西部資料,共同投資的巖手縣北上市新工廠K1已在2020上半年開始少量生產,在四日市儲存器生產基地北側,Fab7工廠土地正在動工中,建設將分兩個階段,第一階段建設計劃於2022年春季完成。另外,鎧俠還宣佈將擴建日本巖手縣生產基地,將在現有的K1工廠旁擴建K2廠區,將於2021年春季開始,2022年春季完成。

因此,

三星投資自然也不會手軟,而且看好新的2021年5G手機和SSD市場前景。

據悉,2020年在中國西安的二期第一階段已投產,並開始新建二期第二階段專案,將在2021年下半年竣工,同時平澤P2工廠已投資8兆韓元新建NAND Flash產線,計劃2021下半年開始量產。

三星晶圓代工“霸主”目標不變,市場供不應求,加快投資步伐

三星曾披露“半導體願景2030”長期計劃,目標是在未來10年裡 “稱霸”晶圓代工市場。

雖然目前與臺積電在全球市場佔有率上還有較大的差距,但是無論是在技術還是投資上,三星都在不斷的增加。

2020年三星已開始在華城工廠批次生產5nm EUV產品,同時提升位於韓國平澤工廠的晶圓代工產能,擴大5nm EUV量產規模。三星從2005年新建首條12英寸代工生產線,如今已擁有7條代工生產線,將持續滿足5G、高效能計算和人工智慧等市場需求。

在先進技術上,三星將在2022年大規模生產3nm製程晶片,這與臺積電在2022年下半年量產3nm的規劃保持一致。不過,臺積電也表示,2nm製程上取得重大內部突破,有望於2023下半年進行風險性試產,2024年投入量產。

此外,之前就有訊息稱,三星獲得高通大訂單,將製造用於中低端價位手機的5G處理器,再加上當前晶圓代工產能供不應求,有訊息稱NVIDIA向三星追加訂單,已開始在華城晶圓代工廠進行生產,預計晶圓代工產能緊缺的熱度將會持續到2021年,三星勢必會加快投資步伐。

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