EUV光刻機不重要了
晶片製造是最近兩年提的最多的話題，本質原因是華為的遭遇，讓我國企業明白，
在半導體制造方面我國還存在著短板，只有補齊這些短板，未來我國企業才可以更自由的進行技術發展。
因此，我國提出了在2025年實現晶片自給率70%的目標，而為了實現這一目標，國內一批半導體晶片企業都開始積極行動起來，
中科院、清華大學等科研機構也開始了加速EUV光刻機的研發道路。
畢竟，當下在我國晶片製造環節中，最為缺失的一環就是EUV光刻機，由於ASML公司不向我國出口EUV光刻機，導致我國晶片代工企業的代工製程無法向7nm以下下探，
如果EUV光刻機技術能夠被突破，那麼我國晶片技術將追上世界一流水準，這是當前國內公認的。
但是，在2021年龍芯總工程師胡偉武卻正式發話，提出了一個不同的觀點，胡偉武表示，
“14nm已經夠用了，暫時沒有必要研發5nm”
，面對這種說法，外界很多人都無法理解和接受，因為大眾接收到的資訊就是，
當下無論是移動晶片還是PC晶片的製程都開始向5nm之下下探，臺積電甚至開始了3nm代工工藝的研發，所以，怎麼能夠說14nm已經夠用了呢？
如果說14nm已經夠用的話，那就沒有必要讓中科院和清華大學研發EUV光刻機了，
因為14nm晶片不需要EUV光刻機，DUV光刻機就已經足夠了，而DUV光刻機我國的上海微電子公司已經有能力製造了。
華為已經驗證
那麼，事實是否真的是這樣呢？
答案當然是否定的，胡偉武工程師是基於實際應用立場給出的觀點，因為從當下市場應用的角度來統計的話可以發現，
14nm製程和28nm製程研發的晶片能覆蓋現實生活中90%以上的晶片應用場景，無論是汽車晶片還是家電使用的晶片大多都是基於14nm或者是28nm製造的。
這一點華為也已經驗證，在2019年後期，華為遭遇晶片限制後，但是5G通訊業務依舊可以正常發展，
根本原因就是華為的很多基站所需晶片都透過28nm製程代工實現了繼續供應。
所以，當下唯一還困擾著華為的只是手機業務所需的晶片，
因為當下5nm和7nm製程更多的就是應用在智慧手機和個人電腦市場。
這一點倪光南院士和胡偉武工程師也是有共識的，倪光南院士也曾說過，
“我國體系可以滿足新基建、關鍵資訊基礎裝置業務的需求，只是在手機晶片上會有影響”。
所以，綜合來看，當下即便是斷供晶片，對我國企業的實際發展也僅限於智慧手機業務和個人電腦業務而已，其它方面並沒有多大影響，
但是突破EUV光刻機技術還是勢在必行的，畢竟有些技術你可以不用，但是絕對不能沒有，並且當EUV光刻機突破後，我國的晶片技術發展也將進入新的時代。
總結
屆時，以我國的製造能力，我國將成為全球晶片製造的中心，無論是三星電子還是英特爾，未來想要獲得性價比更高的EUV光刻機都還是需要從我國市場進口，同時類似於華為等企業將再也不用擔心晶片事業發展遭遇卡殼的問題，
到時候我國也將會誕生更多的晶片設計公司，全球晶片市場的發展格局也將逐步東移。
所以說，當下即便是對於EUV光刻機和5nm製程晶片不是特別需要，但是突破EUV光刻機依舊是越早越好的。
你覺得我國還需要多久才能夠實現EUV光刻機的突破呢？