近日，中國招標頭條公公服務平臺釋出等離子體介質刻蝕機中標結果公告顯示，中微半導體裝置（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）中標華虹半導體（無錫）有限公司（以下簡稱“華虹無錫”）12臺刻蝕機。
圖片來源：全國招標投標公共服務平臺公告
資訊顯示，中微公司本次中標的12臺刻蝕機裝置包括3臺鈍化膜等離子體刻蝕機、7臺氧化膜等離子體刻蝕機、2臺氮化矽等離子體刻蝕機。
中微公司主要從事高階半導體裝置及泛半導體裝置的研發、生產和銷售，是國內高階微觀加工裝置的知名企業之一。產品主要包括CCP刻蝕裝置、ICP刻蝕裝置、MOCVD裝置等。
近年來，中微公司在刻蝕裝置、MOCVD裝置等裝置產品研發、市場佈局、新業務投資拓展等諸多方面取得了較大的突破和進展。
年報顯示，2021年中微公司營業收入達31。08億元，同比增長36。7%，歸母淨利潤達10。11億元，同比增長105。5%，其中，刻蝕裝置收入為20。04億元，較2020年增長約55。44%，MOCVD裝置收入為5。03億元，較2020年增長約1。53%。
產品進展方面，2021年，中微公司新簽訂單金額達41。3億元，同比增長90。5%，產品付運腔體數由2020年的295腔增至491腔，其中CCP刻蝕機付運298腔，同比增長40%；ICP刻蝕機付運134腔，同比增長235%。
至於MOCVD裝置，年報顯示，2021年6月，中微公司正式釋出用於高效能Mini LED量產的MOCVD裝置Prismo UniMax，半年內已收到來自國內多家領先客戶的批次訂單合計超過100腔。
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