這一次，中科院為實現EUV光刻機國產化拼了！
在數字化時代推進的過程中，生活當中所能接觸到的事物越來越智慧，而這一切都要歸功於“晶片”，可以說晶片是一切科研技術的核心，就好比“人類大腦”般重要，誰能夠掌握更高的製程工藝，就能夠在這場國際競爭當中獲取先機。
由於中國在工業時代起步較晚，這也導致了整體實力落後於歐美國家，特別是在晶片領域，並沒有能夠拿得出手的核心技術，這也導致了幾十年來一直被牽著鼻子走，面對歐美國家的不斷潑冷水，我們的奮起直追也算有了初步成效。
目前對於中國市場來說，最難實現的莫過於用於生產晶片的EUV光刻機，缺乏核心裝置的供應，也導致國內的晶片工藝卡在了14nm，根本無法再朝前邁進一步，國內目前也開始加大力度研發光刻機工藝，這一次中科院為實現國產化拼了。
中科院再次立功
根據財聯社5月6日的報道，中科院上海學院精密機械研究所再一次實現了對光刻機技術的突破，三個重要技術的成功破冰，給予了EUV光刻機國產化更多的可能性！
此次突破的技術當中，包括了光學元器件N41釹玻璃用包邊玻璃研製工作、大口徑離軸反射曝光技術完成了米級脈衝壓縮光柵的製造、大尺寸DKDP長籽晶快速生長技術的應用等等！
而其中的光學元器件、反射曝光系統，正是製造EUV光刻機的核心關鍵，外加上此前北大、清華研究所，實現的光源、電鏡等等技術的突破，意味著我們距離實現國產光刻機的生產製造又近了一步！
EUV光刻機國產化的意義
中國向來都是全球最大的晶片消耗市場，每年所消耗的晶片佔到全球份額的30%以上，然而更為可怕的是，在晶片方面的需求大部分依賴於進口，根據2020年統計的資料顯示，晶片進口額達到了3800億美元，甚至超過了原有的進口量。
如果實現了晶片的部分國產化，就意味著能夠省下一大部分的資金，把省下的資金用於技術研發上，肯定是可以很好地幫助到國內的供應鏈，這就是國內院士呼籲，把重心放在成熟工藝上的原因，打好基礎才是最關鍵的。
受限於光刻機的供應問題，導致了國內晶片廠商在製程工藝上遇阻，但其實在其他環節上國內也還是不錯的，華為在兩年前就擁有了5nm晶片的設計能力，同樣在封裝工藝上也達到了相應的水準，中芯國際已經成功研發出了7nm工藝，只要獲取到EUV光刻機，就能夠快速實現量產化。
因此對於目前國內市場來說，最關鍵的是想辦法實現EUV光刻機的國產化，在實現之後將徹底打通整條晶片國產化產業鏈。
根據ASML提供的財務報表顯示，在2021的整體營收達到了186億歐元，同比增長超過35%，並且還是實現了59億歐元的淨利潤，同比增長超過63%，可見光刻機市場還在不斷地擴大。
特別是應對即將到來的萬物互聯時代，後續我們能夠觸碰到的所有東西，都將實現一定的智慧化，而這個智慧化的前提就是要有“晶片”，後續的市場還將進一步擴大，因此從事EUV光刻機的國產化，還是非常地有必要的。
阻礙光刻機國產化的因素有哪些
ASML的負責人曾說過：“就算他們把圖紙擺在我們面前，我們也製造不出來尖端的光刻機！”
而這樣的嘲諷也並非是空穴來風，製造一臺光刻機需要用到數十萬零部件，來自40多個國家，超過幾百家企業的供應，而每一個零部件都是缺一不可的，如果不能得到供應鏈的支援，也的確是給我們圖紙都沒用。
對於我們來說，不可能逐一去突破所有的零部件，這樣所需要耗費的時間，我們是等不起的，目前我們要做的是突破被美壟斷的技術，只要實現了技術層面的“去美化”，屆時其餘的供應鏈就比較好參與進去的。
目前作為光刻機的鼻祖佳能，已經宣佈重新開啟了對於光刻機的技術研發，同樣
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研究所也接下了研發任務，後續將會採用先進的X光技術，用於取代極紫外光在光刻機領域的地位。
這對於國產光刻機的研發是一個好訊息，可以很好地分散老美的注意力，也不至於把所有的精力放在限制我們身上，伴隨著中科院此次取得的三連，顯然我們距離實現真正的光刻機國產化不遠了，這一次也該拼一把了，對此你們怎麼看呢？